NIKON 尼康 NSR-S625E ArF液浸式扫描光刻机
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支持多重曝光，实现了超高精度与
高产出的ArF液浸式扫描光刻机
| 分辨率 |
≦ 38 nm |
| NA |
1.35 |
| 曝光光源 |
ArF excimer laser (193 nm wavelength) |
| 缩小倍率 |
1 : 4 |
| 最大曝光范围 |
26 mm x 33 mm |
| 重合精度 |
MMO : ≦ 2.5 nm |
| 产出 |
≧ 280 wafers / hour (96 shots) |
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